早前举办的怕中All-In科技峰会上，NVIDIA CEO黄仁勋也曾回应过主持人提出的国自相关问题 ，当时他被问到中国什么时候能完全自主研发出先进光刻机 ，研光
黄仁勋还补充提到，刻机把当前的啥时斯克算力缺口完全补齐 。靠单位算力输出的实际性能，大概两到三年内，也侧面印证了国内半导体全链条自主研发的推进速度远超外界此前的预期，几乎站在了全球顶尖梯队 。中国本土企业就会爆发出极强的大规模量产能力 ，马斯克也提到 ，
近期马斯克在公开访谈中给出了自己的判断 ，
他进一步解释 ，会比绝大多数海外行业从业者预估得更快 ，黄仁勋给出的判断是 ，
中国到2030年左右就能拿出完全自研的先进光刻系统 。
就在之前接受央视财经专访的过程中 ，
两位全球科技行业头部企业的掌舵人先后给出的相似判断 ，这些国产半导体制造设备进入本土晶圆厂完成规模化落地 ，补齐当前阶段的算力供给缺口 。只是时间早晚的问题。一旦相关核心技术完成突破走向成熟 ，